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Tsubasa Science
オリジナル表面処理コーティングで
半導体のライフタイムをより長く
半導体のライフタイムをより長く
Technology
技術紹介
IAD方式は緻密な薄膜～厚膜まで成膜可能なため、
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
多角的な応用が期待当社の独自技術であるIon Assist蒸着法（IAD）は原料を電子ビームで加熱溶融して真空中で蒸着させます。同時に酸素イオンを基盤に照射（1kV）して緻密な成膜を形成させます。原子レベルで成膜するので緻密で硬い膜ができ、クリーンな環境で成膜できます。形成された膜は研磨不要です。
インスタグラム
2026.11.06
今週も皆さま、お疲れ様でした。
2026.11.06
昨日は京葉エリアにある半導体関連のメーカーさんに営業に行きました。風が強いです。今年は台風いつまで来るのでしょうか？異常気象ですね。
2026.10.24
台風の影響は少なくなってます。帰れそうです。5泊6日実りの多い出張になりました。
2026.10.23
日帰りで台南出張行ってきます。
2026.10.22
今日は日帰りで台南に行ってきます。
2026.10.20
今夜は台湾の生ビール18天を戴きます。お疲れ様でございます。
2026.10.20
台湾は電気自動車がとても増えているそうです。ハイブリッドは浸透してない感じです。
2026.10.20
新竹の帰宅ラッシュ
2026.10.19
もう少しで台北桃園空港
2026.10.19
1週間 台湾出張！頑張ります！
半導体製造装置の部材選びでは、膜の種類だけでなく、使用環境や基材との相性を確認することが重要です。Y2O3膜はプラズマにさらされる部品の表面保護に用いられ、PVD方式では成膜条件や部品形状が膜質に影響します。YAG膜との違いを比較する際は、耐久性や交換頻度も判断材料になります。つばさ真空理研株式会社では、RF電源やRFマッチングボックス、中古機販売、CIPに関する情報も取り扱っています。装置の更新や部材選定では、必要な性能と運用条件を整理してから相談すると、導入後のミスマッチを抑えやすくなります。
2026年 11月 7日更新